IPLAN 50X10 NIR-objectief – 50X/0.67 oneindig gecorrigeerd plan-apochromaat, werkafstand 10 mm, 532–1064 nm, met mechanische tekening

De IPLAN 50X10 NIR is een hoogwaardig, oneindig gecorrigeerd plan-apochromatisch microscoopobjectief, ontworpen voor veeleisende nabij-infrarood (NIR) beeldvorming en laserbewerking van materialen. Met een vergroting van 50x en een numerieke apertuur (NA) van 0,67 levert het een uitzonderlijke resolutie (diffractielimiet ~0,5 µm bij 550 nm) met behoud van een praktische werkafstand van 10 mm – ideaal voor het inspecteren van dikke wafers, het observeren van laser-materiaalinteracties en integratie in industriële automatiseringssystemen.