De inspectie van oppervlakteruwheid, staphoogte en dunnefilmdikte op halfgeleiderwafers, precisie-optische lenzen en gecoate componenten bepaalt direct de productieopbrengst. Traditionele contactsonde-scans beschadigen delicate monsters gemakkelijk, terwijl gewone optische meetapparatuur geen precisie op nanoniveau kan leveren. Hoe kunnen we tegelijkertijd niet-destructief onderzoek, ultrahoge nanonauwkeurigheid en inspectie met hoge doorvoer voor massaproductie realiseren?
De nieuwe industriële witlichtinterferometer van Wavelength OE beschikt over twee interferometrische meetmodi. Dankzij contactloze detectie bestrijkt het apparaat de volledige workflow, van laboratoriumonderzoek en -ontwikkeling tot online kwaliteitscontrole in de productie.
Dual Core Interferometrie-modi voor alle oppervlaktetopografieën
In tegenstelling tot meetapparaten met één meetmodus, integreert dit systeem VSI- (Vertical Scanning Interferometry) en PSI- (Phase-Shifting Interferometry) algoritmen, waardoor met één apparaat aan twee essentiële meetvereisten wordt voldaan.
| Vergelijkingsitem | VSI / CSI | PSI |
|---|---|---|
| Belangrijkste toepassingsgebieden | Ruwe oppervlakken, trappen, onderbroken en complexe topografieën | Ultragladde, doorlopende en spiegelende oppervlakken |
| Meetbereik verticale hoogte | Breed meetbereik; geschikt voor het meten van diepe groeven en hoge treden. | Beperkt bereik; niet geschikt voor geïsoleerde grote treden. |
| Verticale resolutie | Nanometerniveau; subnanometerniveau haalbaar met geoptimaliseerde algoritmen. | Hoogste resolutie; herhaalbaarheid tot op sub-nanometer- en zelfs sub-angstromniveau. |
| Tolerantie voor oppervlakteruwheid | Hoog | Laag |
| Fase-ambiguïteit | Vrijwel geen; uitvoer van absolute hoogtewaarde beschikbaar | Onderhevig aan een fasefout van 2π |
| Snelheid meten | Vereist axiale scanning, relatief traag | Over het algemeen sneller |
| Trillingsbestendigheid | Gevoelig voor trillingen tijdens het scannen | Faseverschuiving over meerdere frames, gevoeliger voor trillingen |
| Typische toepassingen | Ruwheid, staphoogte, microstructuren, bewerkte oppervlakken | Testen van de ruwheid, vorm en vlakheid van een ultraglad oppervlak |
PSI (Phase-Shifting Interferometry): Gespecialiseerd in minuscule hoogtestructuren op nanoschaal en ultradunne films, voor een ultieme microscopische resolutie.
Vlakke spiegel
Gebogen spiegel (bolle spiegel)
Fotolithografisch patroonvoorbeeld
VSI (Vertical Scanning Interferometry): Geoptimaliseerd voor werkstukken met grote hoogteverschillen en grote stappen; volledig meetbereik beschikbaar zonder segmentscanning.
Cirkelvormige microbump-array op geavanceerde verpakte wafers
Elliptische microbump-array op geavanceerde verpakte wafers
microlensarray
In combinatie met een kort-coherente witte lichtbron van 450–700 nm kan het strooilicht van meervoudige reflecties effectief onderdrukken en een sterke anti-interferentieprestatie leveren. Dankzij de meerlaagse coatings kan deze optische component met lage reflectiviteit stabiele en duidelijke interferentiesignalen produceren, wat resulteert in authentieke en betrouwbare metingen.
2. Toonaangevende specificaties op nanoniveau, traceerbare en stabiele langetermijngegevens
-Het systeem maakt gebruik van een witte LED-lichtbron met een centrale golflengte van 550 nm, uitgerust met hoogwaardige prestatieparameters die voldoen aan wereldwijde premiumnormen.
-Verticale resolutie: <1 nm, herhaalmeetfout: <10 nm, werkelijke nanometerprecisie
-Maximaal verticaal meetbereik: 500 μm, geen herhaalde herpositionering nodig voor microstructuren met hoge en lage waarden.
-Scansnelheid: 100 μm/s, één volledige scan voltooid binnen 10 seconden, een goede balans tussen precisie en inspectiecapaciteit.
-Voldoet aan de NIST-traceerbare normen; het ingebouwde automatische kalibratiealgoritme zorgt voor consistente, traceerbare batchgegevens en voldoet aan de strenge kwaliteitscontrole-normen voor de halfgeleider- en optische industrie.
| Item | Parameter |
| Meetcapaciteit | 3D-oppervlaktetopografie, oppervlakteruwheid, staphoogte en filmdikte van reflecterende materialen en optische componenten |
| Gegevensverwervingsmodus | Verticale scaninterferometrie (VSI) + faseverschuivingsinterferometrie (PSI) |
| Kalibratiesysteem | NIST-traceerbare standaard + automatisch kalibratiealgoritme |
| Verticaal meetbereik | 500 μm |
| Gezichtsveld | 20× objectief: 0,87 × 0,65 mm |
| Cameraprestaties | Maximale resolutie: 2048×2448; Beeldsnelheid: 74 fps; Kleurdiepte: 12 bits |
| Scansnelheid | 100 μm/s (precisiemodus) |
| Objectieflensopties | Instelbare objectieven met 20x / 50x vergroting. |
| Installatieontwerp | Geïntegreerd actief trillingsdempingsplatform, horizontale en verticale montage mogelijk. |
| Totale afmetingen (L×B×H) | 120 × 80 × 65 cm |
| Nettogewicht | ≤58 kg |
3. Industrieel geïntegreerd kastontwerp, compatibel met laboratorium- en productielijn.
Geoptimaliseerd voor zowel massaproductiewerkplaatsen als wetenschappelijke onderzoekslaboratoria, met flexibele installatiemogelijkheden.
Geïntegreerd actief trillingsdempingsplatform: Stabiele metingen onder fabriekstrillingen, geen extra trillingsdempingstafel nodig.
Dubbele montagestructuur: horizontale of verticale opstelling, eenvoudige integratie met geautomatiseerde productielijnen en laboratoriumwerkstations.
Compacte alles-in-één behuizing: klein formaat met afmetingen van 120 × 80 × 65 cm, gewicht ≤ 58 kg, eenvoudig ter plaatse te installeren.
Het complete systeem integreert de lichtbron, de interferometer-hoofdeenheid en de besturingsmodule. Direct klaar voor gebruik na het uitpakken, geen ingewikkelde aanpassing van het optische pad nodig.
Brede toepassingsmogelijkheden voor uiterst nauwkeurige productie
Halfgeleiderindustrie: 3D-topografie en staphoogte-inspectie van siliciumwafers en micro-nanochips.
Precisieoptiek: Ruwheids- en filmdiktemetingen voor optische lenzen, objectieven en gecoate optische elementen.
Nieuwe functionele coatings: oppervlakteprofiel en dikteanalyse van reflecterende coatings en functionele dunne films.
Wetenschappelijke onderzoekslaboratoria: Karakterisering van micro- en nanostructuren en nauwkeurige morfologische testen van componenten.
Met jarenlange professionele ervaring in optisch onderzoek en ontwikkeling ontwikkelt Wavelength OE zelfstandig alle essentiële optische paden en meetalgoritmes voor witlichtinterferometers. Volledige technische controle, van lichtbronnen en objectieflenzen tot kalibratiesystemen. Elk apparaat ondergaat vóór levering een nauwkeurige kalibratie in meerdere rondes. Wij bieden volledige technische ondersteuning na de verkoop en ontwikkelen exclusieve meetoplossingen op maat, afgestemd op de afmetingen van het werkstuk en de eisen van de automatische productielijn.
Geplaatst op: 15 juli 2026